触媒反応により生成されるラジカルを用いたSiへの低温の不純物ドーピング法の研究

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著者

    • 早川, 太朗 ハヤカワ, タロウ

書誌事項

タイトル

触媒反応により生成されるラジカルを用いたSiへの低温の不純物ドーピング法の研究

著者名

早川, 太朗

著者別名

ハヤカワ, タロウ

学位授与大学

北陸先端科学技術大学院大学

取得学位

博士 (マテリアルサイエンス)

学位授与番号

甲第713号

学位授与年月日

2012-03-23

注記・抄録

博士論文

Supervisor:松村 英樹 教授

マテリアルサイエンス研究科

博士

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000564073
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000566296
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 024031235
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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