改良固相法を用いた(Na,K)NbO₃系圧電セラミックスの作製とパルスレーザー堆積法によるSi基板上への(Na,K)NbO₃系圧電薄膜の形成

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著者

    • 深田, 正紀 フカダ, マサキ

書誌事項

タイトル

改良固相法を用いた(Na,K)NbO₃系圧電セラミックスの作製とパルスレーザー堆積法によるSi基板上への(Na,K)NbO₃系圧電薄膜の形成

著者名

深田, 正紀

著者別名

フカダ, マサキ

学位授与大学

龍谷大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第146号

学位授与年月日

2012-03-16

注記・抄録

博士論文

3アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000571058
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000573356
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 024470904
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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