高性能薄膜トランジスタの実用化をめざした大粒径シリコン薄膜作製手法の研究 Study of Fabrication Method of Poly-Si Films with Large Grain-size for Practical Use of High-performance Thin Film Transisters コウセイノウ ハクマク トランジスタ ノ ジツヨウカ オ メザシタ ダイリュウケイ シリコン ハクマク サクセイ シュホウ ノ ケンキュウ

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著者

    • 平松, 雅人 ヒラマツ, マサト

書誌事項

タイトル

高性能薄膜トランジスタの実用化をめざした大粒径シリコン薄膜作製手法の研究

タイトル別名

Study of Fabrication Method of Poly-Si Films with Large Grain-size for Practical Use of High-performance Thin Film Transisters

タイトル別名

コウセイノウ ハクマク トランジスタ ノ ジツヨウカ オ メザシタ ダイリュウケイ シリコン ハクマク サクセイ シュホウ ノ ケンキュウ

著者名

平松, 雅人

著者別名

ヒラマツ, マサト

学位授与大学

奈良先端科学技術大学院大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第1100号

学位授与年月日

2012-12-21

注記・抄録

博士論文

1アクセス

キーワード

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000571105
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000573403
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 024471200
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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