Control of interfacial structures and electrical properties of metal/high-permittivity-rare-earth-oxide/Ge gate stack structures 金属/高誘電率希土類酸化物/Geゲートスタック構造の界面構造および電子物性制御

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著者

    • 加藤, 公彦 カトウ, キミヒコ

書誌事項

タイトル

Control of interfacial structures and electrical properties of metal/high-permittivity-rare-earth-oxide/Ge gate stack structures

タイトル別名

金属/高誘電率希土類酸化物/Geゲートスタック構造の界面構造および電子物性制御

著者名

加藤, 公彦

著者別名

カトウ, キミヒコ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第10172号

学位授与年月日

2013-03-25

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000572900
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000575215
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024663630
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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