Control of interfacial structures and electrical properties of metal/high-permittivity-rare-earth-oxide/Ge gate stack structures 金属/高誘電率希土類酸化物/Geゲートスタック構造の界面構造および電子物性制御

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Author

    • 加藤, 公彦 カトウ, キミヒコ

Bibliographic Information

Title

Control of interfacial structures and electrical properties of metal/high-permittivity-rare-earth-oxide/Ge gate stack structures

Other Title

金属/高誘電率希土類酸化物/Geゲートスタック構造の界面構造および電子物性制御

Author

加藤, 公彦

Author(Another name)

カトウ, キミヒコ

University

名古屋大学

Types of degree

博士(工学)

Grant ID

甲第10172号

Degree year

2013-03-25

Note and Description

博士論文

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000572900
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000575215
  • Text Lang
    • eng
  • NDLBibID
    • 024663630
  • Source
    • NDL ONLINE

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