Effects of plasma processing on electrical properties of high-k/Ge gate stack structure プラズマプロセスがHigh-k/Geゲートスタック構造の電気的特性に与える影響
この論文をさがす
著者
書誌事項
- タイトル
-
Effects of plasma processing on electrical properties of high-k/Ge gate stack structure
- タイトル別名
-
プラズマプロセスがHigh-k/Geゲートスタック構造の電気的特性に与える影響
- 著者名
-
Kusumandari
- 著者別名
-
クスマンダリ
- 学位授与大学
-
名古屋大学
- 取得学位
-
博士(工学)
- 学位授与番号
-
甲第10177号
- 学位授与年月日
-
2013-03-25
注記・抄録
博士論文