Studies on fabrication of silicon thin films using plasma enhanced chemical vapor deposition and behaviors of radicals プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製およびラジカルの挙動に関する研究

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著者

    • 阿部, 祐介 アベ, ユウスケ

書誌事項

タイトル

Studies on fabrication of silicon thin films using plasma enhanced chemical vapor deposition and behaviors of radicals

タイトル別名

プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製およびラジカルの挙動に関する研究

著者名

阿部, 祐介

著者別名

アベ, ユウスケ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第10160号

学位授与年月日

2013-03-25

注記・抄録

博士論文

名古屋大学博士学位論文 学位の種類 : 博士(工学)(課程) 学位授与年月日:平成25年3月25日

4アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000572969
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000575284
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024664388
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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