Studies on fabrication of silicon thin films using plasma enhanced chemical vapor deposition and behaviors of radicals プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製およびラジカルの挙動に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
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Studies on fabrication of silicon thin films using plasma enhanced chemical vapor deposition and behaviors of radicals
- Other Title
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プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製およびラジカルの挙動に関する研究
- Author
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阿部, 祐介
- Author(Another name)
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アベ, ユウスケ
- University
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名古屋大学
- Types of degree
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博士(工学)
- Grant ID
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甲第10160号
- Degree year
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2013-03-25
Note and Description
博士論文
名古屋大学博士学位論文 学位の種類 : 博士(工学)(課程) 学位授与年月日:平成25年3月25日
