Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma etching processes by using reactive beam irradiation 反応性ビーム照射を用いたプラズマエッチングプロセス中のフォトレジストの反応過程に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma etching processes by using reactive beam irradiation
- タイトル別名
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反応性ビーム照射を用いたプラズマエッチングプロセス中のフォトレジストの反応過程に関する研究
- 著者名
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竹内, 拓也
- 著者別名
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タケウチ, タクヤ
- 学位授与大学
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名古屋大学
- 取得学位
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博士(工学)
- 学位授与番号
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甲第10161号
- 学位授与年月日
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2013-03-25
注記・抄録
博士論文