Development of chemical structure transferring process and formation of ultralow reflectance Si surfaces 化学的転写法の開発と極低反射率を持つシリコン表面の創製

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著者

    • 福島, 隆史 フクシマ, タカシ

書誌事項

タイトル

Development of chemical structure transferring process and formation of ultralow reflectance Si surfaces

タイトル別名

化学的転写法の開発と極低反射率を持つシリコン表面の創製

著者名

福島, 隆史

著者別名

フクシマ, タカシ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士(理学)

学位授与番号

甲第16039号

学位授与年月日

2013-03-25

注記・抄録

博士論文

14401甲第16039号

博士(理学)

大阪大学

2013-03-25

25824

3アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000573643
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000575964
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024703314
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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