Clarification of nano-meter-scale surface-layer reaction mechanisms in plasma etching processes プラズマエッチングにおけるナノメートル表面層反応機構の解明

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著者

    • 伊藤, 智子 イトウ, トモコ

書誌事項

タイトル

Clarification of nano-meter-scale surface-layer reaction mechanisms in plasma etching processes

タイトル別名

プラズマエッチングにおけるナノメートル表面層反応機構の解明

著者名

伊藤, 智子

著者別名

イトウ, トモコ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第16421号

学位授与年月日

2013-03-25

注記・抄録

博士論文

14401甲第16421号

博士(工学)

大阪大学

2013-03-25

26207

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000573936
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000576258
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024709951
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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