A study on growth technology of novel materials for absorption layers of infrared sensors by molecular beam epitaxy method on InP substrates 分子線エピタキシー法によるInP基板上への赤外センサ受光層用新規材料の結晶成長技術に関する研究

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著者

    • 三浦, 広平 ミウラ, コウヘイ

書誌事項

タイトル

A study on growth technology of novel materials for absorption layers of infrared sensors by molecular beam epitaxy method on InP substrates

タイトル別名

分子線エピタキシー法によるInP基板上への赤外センサ受光層用新規材料の結晶成長技術に関する研究

著者名

三浦, 広平

著者別名

ミウラ, コウヘイ

学位授与大学

大阪府立大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第1403号

学位授与年月日

2013-03-31

注記・抄録

博士論文

学位記番号:論工第1324号, 指導教員:河村裕一

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000574235
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000576560
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024794806
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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