半導体製造装置における気体分子の吸着脱離現象に関する研究 Adsorption and desorption phenomena of gas molecules in semiconductor manufacturing equipment

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著者

    • 加賀爪, 明子 カガツメ, アキコ

書誌事項

タイトル

半導体製造装置における気体分子の吸着脱離現象に関する研究

タイトル別名

Adsorption and desorption phenomena of gas molecules in semiconductor manufacturing equipment

著者名

加賀爪, 明子

著者別名

カガツメ, アキコ

学位授与大学

早稲田大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第3656号

学位授与年月日

2012-06-21

注記・抄録

博士論文

制度:新 ; 報告番号:甲3656号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:2012/6/21 ; 主論文の冊数:1 ; 早大学位記番号:新6021

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000574618
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000576948
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 024802617
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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