Formation of ultrathin films by laterally enhanced growth of electrochemical deposition for molecular electronics 分子エレクトロニクスへの応用を目的としたラテラル方向へのめっき優先成長を用いた超薄膜の形成

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著者

    • 小林, 千秋 コバヤシ, チアキ

書誌事項

タイトル

Formation of ultrathin films by laterally enhanced growth of electrochemical deposition for molecular electronics

タイトル別名

分子エレクトロニクスへの応用を目的としたラテラル方向へのめっき優先成長を用いた超薄膜の形成

著者名

小林, 千秋

著者別名

コバヤシ, チアキ

学位授与大学

早稲田大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第3951号

学位授与年月日

2013-03-15

注記・抄録

博士論文

制度:新 ; 報告番号:甲3951号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:2013/3/15 ; 主論文の冊数:1 ; 早大学位記番号:新6323

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000574752
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000577083
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024807335
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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