Amorphous carbon and silica-based films synthesized by atmospheric pressure plasma CVD method 大気圧プラズマ化学蒸着法で作製した非晶質炭素膜とシリカ系薄膜

この論文をさがす

著者

    • 登坂, 万結 ノボリサカ, マユイ

書誌事項

タイトル

Amorphous carbon and silica-based films synthesized by atmospheric pressure plasma CVD method

タイトル別名

大気圧プラズマ化学蒸着法で作製した非晶質炭素膜とシリカ系薄膜

著者名

登坂, 万結

著者別名

ノボリサカ, マユイ

学位授与大学

慶應義塾大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第3788号

学位授与年月日

2013-03-23

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000574945
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000577276
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024809011
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
ページトップへ