半導体装置製造用の電子サイクロトロン共鳴を用いたエッチング処理室におけるマイクロ波伝搬と均一プラズマ生成に関する研究 Study on microwave propagation and uniform plasma generation in an electron cyclotron etching reactor for semiconductor manufacturing
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Bibliographic Information
- Title
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半導体装置製造用の電子サイクロトロン共鳴を用いたエッチング処理室におけるマイクロ波伝搬と均一プラズマ生成に関する研究
- Other Title
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Study on microwave propagation and uniform plasma generation in an electron cyclotron etching reactor for semiconductor manufacturing
- Author
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田村, 仁
- University
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東京農工大学
- Types of degree
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博士（工学）
- Grant ID
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博工甲第1227号
- Degree year
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2022-03-25
Note and Description
収集根拠 : 博士論文（自動収集）
資料形態 : テキストデータ
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
