Spectroscopic diagnostics of CE4-O2 plasmas during Si and SiO2 etching processes
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収録刊行物
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- J Appl Phys
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J Appl Phys 52 1259-1265, 1981
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1572261548953460864
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- NII論文ID
- 80001079633
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- NII書誌ID
- AA00693547
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- データソース種別
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- CiNii Articles