Plasmaless cleaning process of silicon surface using chlorine tri-fluoride

• SAITO Y.

収録刊行物

• Appl. Phys. Lett.

  Appl. Phys. Lett. 56 1119-1121, 1990

詳細情報

• CRID: 1570291226729928832
• NII論文ID: 80005115286
• データソース種別:
  • CiNii Articles