大気圧プラズマCVD法によるSiNx薄膜の高速形成に関する研究 : NH_3/SiH_4比の最適化

• 森 勇蔵

  大阪大学

• 芳井 熊安

  大阪大学

• 安武 潔

  大阪大学

• 垣内 弘章

  大阪大学

• 大参 宏昌

  大阪大学

• 山本 達志

  シャープ(株)

• 中濱 康冶

  シャープ(株)

収録刊行物

• 精密工学会大会学術講演会講演論文集

  精密工学会大会学術講演会講演論文集 2002 (2), 370-, 2002-10-01

詳細情報

• CRID: 1570854176752421760
• NII論文ID: 80015784428
• NII書誌ID: AN1018673X
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles