Plasma etching in semiconductor fabrication

著者

• Morgan, Russ A.

書誌事項

Plasma etching in semiconductor fabrication

Russ A. Morgan

（Plasma technology, 1）

Elsevier, c1985

注記

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA00003964
• ISBN:
  • 0444424199
• LCCN: 85004392
• 出版国コード: ne
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Amsterdam ; Tokyo
• ページ数/冊数: 318 p
• 大きさ: 25 cm
• 分類:
  • LCC : TK7871.85
  • DC19 : 621.3815/2
• 件名:
  • LCSH : Semiconductors -- Etching
  • LCSH : Plasma etching
• 親書誌ID:
  • BA00003975