Plasma processing : symposium held April 15-18, 1986, Palo Alto, California, U.S.A.

著者

• Coburn, J. W.
• Gottscho, R. A.
• Hess, Dennis W.
• Materials Research Society
• Symposium on Plasma Processing

書誌事項

Plasma processing : symposium held April 15-18, 1986, Palo Alto, California, U.S.A.

editors, J.W. Coburn, R.A. Gottscho, D.W. Hess

（Materials Research Society symposium proceedings, v. 68）

Materials Research Society, c1986

注記

Includes indexes

• NII書誌ID(NCID): BA00570669
• ISBN:
  • 0931837340
• LCCN: 86016292
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Pittsburgh, Pa.
• ページ数/冊数: xvii, 463 p.
• 大きさ: 24 cm
• 分類:
  • LCC : TA2005
  • DC19 : 621.044
• 件名:
  • LCSH : Plasma engineering -- Congresses
• 親書誌ID:
  • BA00013775