Ion implantation and beam processing

著者

• Williams, J. S. (James Stanislaus)
• Poate, J. M.

書誌事項

Ion implantation and beam processing

edited by J.S. Williams, J.M. Poate

Academic Press, 1984

注記

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA06909986
• ISBN:
  • 0127569804
• LCCN: 83071159
• 出版国コード: at
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Sydney ; New York
• ページ数/冊数: xi, 419 p.
• 大きさ: 24 cm
• 分類:
  • LCC : QC702.7.I55
  • DC19 : 621.3815/2
• 件名:
  • LCSH : Ion implantation
  • LCSH : Ion bombardment
  • LCSH : Semiconductor doping
  • LCSH : Electron beams