Studies on structural properties of silicon-based insulator films prepared by plasma processings

著者

• 平尾, 孝 ヒラオ, タカシ

書誌事項

Studies on structural properties of silicon-based insulator films prepared by plasma processings

by Takashi Hirao

Takashi Hirao, 1989

タイトル別名

プラズマプロセスによるSi系絶縁薄膜の構造的特性に関する研究

注記

Thesis(doctoral) -- Kanazawa University, 1989, 学博乙第4号

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA12416484
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Kanazawa
• ページ数/冊数: 159p
• 大きさ: 31cm