Dry etching for VLSI

著者

• Roosmalen, A. J. van
• Baggerman, J. A. G.
• Brader, S. J. H.

書誌事項

Dry etching for VLSI

A.J. van Roosmalen, J.A.G. Baggerman, and S.J.H. Brader

（Updates in applied physics and electrical technology）

Plenum Press, c1991

注記

Includes bibliographical references and index

• NII書誌ID(NCID): BA12663213
• ISBN:
  • 0306438356
• LCCN: 91007385
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: New York
• ページ数/冊数: xvii, 237p.
• 大きさ: 26 cm
• 分類:
  • LCC : TK7871.85
  • DC20 : 621.381/52
• 件名:
  • LCSH : Semiconductors -- Etching
  • LCSH : Integrated circuits -- Very large scale integration -- Design and construction
  • LCSH : Plasma etching
• 親書誌ID:
  • BA00657086