The physics of submicron lithography

著者

• Valiev, Kamilʹ Akhmetovich

書誌事項

The physics of submicron lithography

Kamil A. Valiev

（Microdevices : physics and fabrication technologies）

Plenum Press, c1992

注記

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA1847061X
• ISBN:
  • 0306435780
• LCCN: 91041122
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: New York
• ページ数/冊数: xi, 493 p.
• 大きさ: 26 cm
• 分類:
  • LCC : TK7874
  • DC20 : 621.381/531
• 件名:
  • LCSH : Lithography, Electron beam
  • LCSH : X-ray lithography
  • LCSH : Ion beam lithography
  • LCSH : Physics
• 親書誌ID:
  • BA01301028