Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions

著者

• Rossnagel, Stephen M.
• Cuomo, J. J.
• Westwood, William D. (William Dickson)

書誌事項

Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions

edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood

（Materials science and process technology series）

Noyes Publications, c1990

注記

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA18754617
• ISBN:
  • 0815512201
• LCCN: 89022834
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Park Ridge, N.J.
• ページ数/冊数: xxiii, 523 p.
• 大きさ: 25 cm
• 分類:
  • LCC : TA2020
  • DC19 : 621.044
• 件名:
  • LCSH : Plasma engineering
  • LCSH : Semiconductors -- Etching
  • LCSH : Plasma etching
• 親書誌ID:
  • BA04523161