Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar

著者

• Reimer, Eduard
• Karl, Nastelski

書誌事項

Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar

begründet von Eduard Reimer

C. Heymanns, 1968

3., erweiterte und neubearbeitete Aufl / von Karl Nastelski ... [et al.]

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA19109439
• 出版国コード: gw
• タイトル言語コード: ger
• 本文言語コード: ger
• 出版地: Köln
• ページ数/冊数: xxx, 2505 p.
• 大きさ: 24 cm