Chemical vapor deposition : principles and applications

著者

• Hitchman, Michael L.
• Jensen, Klavs F.

書誌事項

Chemical vapor deposition : principles and applications

edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen

Academic Press, c1993

注記

Index:p.[663]-677

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA19797477
• ISBN:
  • 0123496705
• 出版国コード: uk
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: London
• ページ数/冊数: v, 677 p.
• 大きさ: 24 cm
• 分類:
  • DC20 : 671.735