X-ray diffraction at elevated temperatures : a method for in situ process analysis

著者

• Chung, Deborah D. L.

書誌事項

X-ray diffraction at elevated temperatures : a method for in situ process analysis

D.D.L. Chung ... [et al.]

VCH, c1993

注記

Includes bibliographical references and index

• NII書誌ID(NCID): BA20536040
• ISBN:
  • 0895737450
  • 3527278427
• LCCN: 92021803
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: New York
• ページ数/冊数: viii, 268 p.
• 大きさ: 24 cm
• 分類:
  • LCC : QC482.D5
  • DC20 : 548/.83
• 件名:
  • LCSH : X-rays -- Diffraction
  • LCSH : X-rays -- Industrial applications