Modeling of chemical vapor deposition of tungsten films

著者

• Kleijn, Chris R.
• Werner, Christoph

書誌事項

Modeling of chemical vapor deposition of tungsten films

Chris R. Kleijn, Christoph Werner

（Progress in numerical simulation for microelectronics, vol. 2）

, 1993

• : Basel
• : Boston

注記

Includes bibliographical references

• NII書誌ID(NCID): BA2058796X
• ISBN:
  • 3764328584
  • 0817628584
• LCCN: 92044681
• 出版国コード: sz
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: und
• 出版地: Basel Birkhäuser Verlag
• ページ数/冊数: 138 p.
• 大きさ: 23 cm
• 分類:
  • LCC : TK7871.15.F5
  • DC20 : 621.3815/2
• 件名:
  • LCSH : Semiconductor films -- Mathematical models
  • LCSH : Vapor-plating -- Mathematical models
• 親書誌ID:
  • BA12786213