Resists in microlithography and printing

著者

• Bednar, J. Bee
• Králíček, Jaroslav
• Zachoval, Jaromír

書誌事項

Resists in microlithography and printing

Bohumil Bednář, Jaroslav Králíček, and Jaromír Zachoval ; with contributions by Andrey V. Yelcov and Tatyana A. Yurre

（Materials science monographs, 76）

Elsevier, 1993

2nd rev. ed

タイトル別名

Litografické techniky

統一タイトル

Litografické techniky

注記

Translation of: Litografické techniky

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA20897060
• ISBN:
  • 0444988467
• LCCN: 92005585
• 出版国コード: ne
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 原本言語コード: cze
• 出版地: Amsterdam ; Tokyo
• ページ数/冊数: 376 p.
• 大きさ: 25 cm
• 分類:
  • LCC : TK7871.85
  • DC20 : 621.381/52
• 件名:
  • LCSH : Semiconductors -- Design and construction
  • LCSH : Integrated circuits -- Very large scale integration -- Design and construction
  • LCSH : Microlithography
  • LCSH : X-ray lithography
  • LCSH : Lithography, Electron beam
• 親書誌ID:
  • BA00014483