炎症修復機序における細胞表在・内在性マトリックス高分子成分の代謝解析

書誌事項

炎症修復機序における細胞表在・内在性マトリックス高分子成分の代謝解析

村田克己[ほか著]

(科学研究費補助金(一般研究C)研究成果報告書, 平成5-6年度)

[東京芸術大学], 1995.3

タイトル読み

エンショウ シュウフク キジョ ニ オケル サイボウ ヒョウザイ・ナイザイセイ マトリックス コウブンシ セイブン ノ タイシャ カイセキ

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注記

研究課題番号: 05670149

研究代表者: 村田克己

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA34976234
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    [東京]
  • ページ数/冊数
    30p
  • 大きさ
    29cm
  • 親書誌ID
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