Plasma etching : fundamentals and applications

著者

• 菅原, 実 スガワラ, ミノル
• Stansfield, Barry L.

書誌事項

Plasma etching : fundamentals and applications

M. Sugawara ; with contributions from Barry L. Stansfield ... [et al.]

（Series on semiconductor science and technology, 7）（Oxford science publications）

Oxford University Press, 1998

注記

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA37045123
• ISBN:
  • 019856287X
• LCCN: 97039210
• 出版国コード: uk
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Oxford
• ページ数/冊数: viii, 347 p.
• 大きさ: 24 cm
• 分類:
  • LCC : TK7871.85
  • DC21 : 621.3815/31
• 件名:
  • LCSH : Semiconductors -- Etching
  • LCSH : Plasma etching
• 親書誌ID:
  • BA06558586
  • BA00281843