高速イオン入射における超高真空下での薄膜清浄表面からの2次電子放出個数分布の研究

Bibliographic Information

高速イオン入射における超高真空下での薄膜清浄表面からの2次電子放出個数分布の研究

研究代表者 東俊行

東俊行, 1998.3

Other Title

平成8年度〜平成9年度科学研究費補助金(基盤研究(C)(2))研究成果報告書

文部省科学研究費補助金(基盤研究(C)(2))研究成果報告書

Title Transcription

コウソク イオン ニュウシャ ニ オケル チョウ コウ シンクウカ デノ ハクマク セイジョウ ヒョウメン カラ ノ 2ジ デンシ ホウシュツ コスウ ブンプ ノ ケンキュウ

Available at  / 1 libraries

Search this Book/Journal

Contents of Works

  • イオンビーム衝撃による清浄表面からの放出二次電子個数分布の研究 / 森下雄一郎

Details

  • NCID
    BA37857038
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [東京]
  • Pages/Volumes
    1冊
  • Size
    30cm
Page Top