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サブミクロンULSIプロセス技術

半導体基盤技術研究会編

(Ultra clean technology)

リアライズ社, 1989.11-1990.8

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タイトル読み

サブミクロン ユーエルエスアイ プロセス ギジュツ

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注記

監修: 大見忠弘, 新田雄久

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詳細情報
  • NII書誌ID(NCID)
    BA39073298
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    3冊
  • 大きさ
    27cm
  • 分類
  • 件名
  • 親書誌ID
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