Plasma processes for semiconductor fabrication

著者

• Hitchon, W. Nicholas G.

書誌事項

Plasma processes for semiconductor fabrication

W.N.G. Hitchon

（Cambridge studies in semiconductor physics and microelectronic engineering, 8）

Cambridge University Press, 1999

• : hardback
• : pbk

注記

Includes bibliographical references (p. 205-211) and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA40981104
• ISBN:
  • 0521591759
  • 0521018005
• LCCN: 98011717
• 出版国コード: uk
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Cambridge ; New York
• ページ数/冊数: ix, 221 p.
• 大きさ: 26 cm
• 分類:
  • LCC : TK7871.85
  • DC21 : 621.3815/2
• 件名:
  • LCSH : Semiconductors -- Etching
  • LCSH : Plasma etching
• 親書誌ID:
  • BA20948693