ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究

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ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究

後藤俊夫 [ほか著]

[出版者不明], 1999.3

Other Title

平成8年度ー平成10年度科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書

Title Transcription

ラジカル セイギョ オ モチイタ ヒョウメン ハンノウ カテイ オヨビ ハクマク ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ

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Note

課題番号:08405005

研究分担者: 河野明廣,堀勝,伊藤昌文

Details

  • NCID
    BA42507352
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    [出版地不明]
  • Pages/Volumes
    47p
  • Size
    30cm
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