Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing

著者

• Bouchoule, André

書誌事項

Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing

edited by André Bouchoule

Wiley, 1999

• : alk. paper

注記

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA42921588
• ISBN:
  • 0471973866
• LCCN: 98050683
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: New York
• ページ数/冊数: viii, 408 p.
• 大きさ: 24 cm
• 分類:
  • LCC : TA2020
  • DC21 : 660/.044
• 件名:
  • LCSH : Plasma engineering
  • LCSH : Plasma (Ionized gases -- Industrial applications
  • LCSH : Dusty plasmas
  • LCSH : Plasma chemistry
  • LCSH : Plasma enhanced chemical vapor deposition