光電子回折による金属/絶縁体薄膜界面反応プロセスの研究

Author(s)

• 石井, 秀司 イシイ, ヒデシ

Bibliographic Information

光電子回折による金属/絶縁体薄膜界面反応プロセスの研究

研究代表者 石井秀司

石井秀司, 1999.3

Other Title

平成9〜10年度科学研究費補助金(基盤研究(C)(2))研究成果報告書

文部省科学研究費補助金(基盤研究(C)(2))研究成果報告書

Title Transcription

コウデンシ カイセツ ニヨル キンゾク ゼツエンタイ ハクマク カイメン ハンノウ プロセス ノ ケンキュウ

Note

研究協力者: 大森真二[ほか]

Details

• NCID: BA43293378
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: [東京]
• Pages/Volumes: 63p
• Size: 30cm