最新液晶プロセス技術 : Technology・equipment・materials

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最新液晶プロセス技術 : Technology・equipment・materials

(月刊『FPD intelligence』, 1998年増刊号第3巻第11号)

プレスジャーナル, 1998.9

  • '99

タイトル読み

サイシン エキショウ プロセス ギジュツ : Technology・equipment・materials

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内容説明・目次

内容説明

2000年に向けて進化する液晶プロセス技術、製造装置・部品・材料完全収録。

目次

  • 第1編 液晶ディスプレイを取り巻く将来展望
  • 第2編 液晶ディスプレイの最新動向
  • 第3編 TFT基板製造技術
  • 第4編 カラーフィルタ基板形成技術
  • 第5編 液晶セル形成技術
  • 第6編 モジュール化技術
  • 第7編 検査技術
  • 第8編 基板搬送・生産管理技術
  • 第9編 部品技術

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA45362595
  • ISBN
    • 4894660415
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    516p
  • 大きさ
    28cm
  • 分類
  • 件名
  • 親書誌ID
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