Maskentechnik für Mikroelektronikbausteine : Tagung München, 14. November 1985
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Maskentechnik für Mikroelektronikbausteine : Tagung München, 14. November 1985
（VDI-Berichte, 584）
VDI, c1985
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注記
Includes bibliographical references
収録内容
- Maskenblanks, qualitätsbestimmende Faktoren / M. Maul und G. Sele
- Lithographie für die Maskenherstellung / U. Böttiger und J. Wüstenhagen
- Maskenreinigung und Defekterfassung / H. Feindt
- Pellicles / G. Meyer
- Herstellung fotolithographischer DUV-Arbeitsmasken mittels schreibender und projizierender lonenimplantation / F.G. Rüdenauer und G. Stangl
- Röntgenmasken / H. Lüthje
- Silizium-Transmissionsmasken für die Submicron-Elektronenstrahl-Lithographie / U. Behringer
- Durchstrahlungsmasken für die lonenprojektionslithographie / H. Löschner
- Die Zukunft der Maskentechnik / D. Sofronijevic