Maskentechnik für Mikroelektronikbausteine : Tagung München, 14. November 1985

Author(s)

• VDI/VDE-Gesellschaft Feinwerktechnik

Bibliographic Information

Maskentechnik für Mikroelektronikbausteine : Tagung München, 14. November 1985

VDI/VDE-Gesellschaft Feinwerktechnik

（VDI-Berichte, 584）

VDI, c1985

Note

Includes bibliographical references

Contents of Works

• Maskenblanks, qualitätsbestimmende Faktoren / M. Maul und G. Sele
• Lithographie für die Maskenherstellung / U. Böttiger und J. Wüstenhagen
• Maskenreinigung und Defekterfassung / H. Feindt
• Pellicles / G. Meyer
• Herstellung fotolithographischer DUV-Arbeitsmasken mittels schreibender und projizierender lonenimplantation / F.G. Rüdenauer und G. Stangl
• Röntgenmasken / H. Lüthje
• Silizium-Transmissionsmasken für die Submicron-Elektronenstrahl-Lithographie / U. Behringer
• Durchstrahlungsmasken für die lonenprojektionslithographie / H. Löschner
• Die Zukunft der Maskentechnik / D. Sofronijevic

• NCID: BA45885673
• ISBN:
  • 3180905840
• LCCN: 86114627
• Country Code: gw
• Title Language Code: ger
• Text Language Code: ger
• Place of Publication: Düsseldorf
• Pages/Volumes: 215 p.
• Size: 23 cm
• Classification:
  • LCC : TA3
  • LCC : TK7874
  • DC19 : 620 s
  • DC19 : 621.381/73
• Subject Headings:
  • LCSH : Integrated circuits -- Masks -- Congresses
• Parent Bibliography ID:
  • BA07558548