Maskentechnik für Mikroelektronikbausteine : Tagung München, 14. November 1985

著者

VDI/VDE-Gesellschaft Feinwerktechnik

（VDI-Berichte, 584）

VDI, c1985

Includes bibliographical references

Maskenblanks, qualitätsbestimmende Faktoren / M. Maul und G. Sele
Lithographie für die Maskenherstellung / U. Böttiger und J. Wüstenhagen
Maskenreinigung und Defekterfassung / H. Feindt
Pellicles / G. Meyer
Herstellung fotolithographischer DUV-Arbeitsmasken mittels schreibender und projizierender lonenimplantation / F.G. Rüdenauer und G. Stangl
Röntgenmasken / H. Lüthje
Silizium-Transmissionsmasken für die Submicron-Elektronenstrahl-Lithographie / U. Behringer
Durchstrahlungsmasken für die lonenprojektionslithographie / H. Löschner
Die Zukunft der Maskentechnik / D. Sofronijevic