高密度プラズマを用いた大面積多結晶シリコン薄膜の低温形成

著者

• 豊田, 浩孝 トヨダ, ヒロタカ

書誌事項

高密度プラズマを用いた大面積多結晶シリコン薄膜の低温形成

豊田浩孝 [ほか著]

[出版者不明], 2000.3

タイトル別名

平成9〜11年度科学研究費補助金(基盤研究(B)展開研究)研究成果報告書

タイトル読み

コウミツド プラズマ オ モチイタ ダイメンセキ タケッショウ シリコン ハクマク ノ テイオン ケイセイ

注記

課題番号:09558055

研究分担者: 菅井秀郎, 中村圭二, 北川雅俊

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA46488781
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: engjpn
• 出版地: [出版地不明]
• ページ数/冊数: 39p
• 大きさ: 30cm