高密度プラズマを用いた大面積多結晶シリコン薄膜の低温形成

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高密度プラズマを用いた大面積多結晶シリコン薄膜の低温形成

豊田浩孝 [ほか著]

[出版者不明], 2000.3

Other Title

平成9〜11年度科学研究費補助金(基盤研究(B)展開研究)研究成果報告書

Title Transcription

コウミツド プラズマ オ モチイタ ダイメンセキ タケッショウ シリコン ハクマク ノ テイオン ケイセイ

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Note

課題番号:09558055

研究分担者: 菅井秀郎, 中村圭二, 北川雅俊

Details

  • NCID
    BA46488781
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    engjpn
  • Place of Publication
    [出版地不明]
  • Pages/Volumes
    39p
  • Size
    30cm
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