Si結晶中の照射誘起欠陥の動的挙動の解明とプロセス応用

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Si結晶中の照射誘起欠陥の動的挙動の解明とプロセス応用

研究代表者佐道泰造

（科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書, 平成10年度-平成11年度）

[九州大学], 2000.3

Other Title

平成10年度-平成11年度科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書(課題番号10650013)

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Siケッショウチュウ ノ ショウシャ ユウキ ケッカン ノ ドウテキ キョドウ ノ カイメイ ト プロセス オウヨウ

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Details

  • NCID
    BA46720260
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [福岡]
  • Pages/Volumes
    63p
  • Size
    30cm
  • Parent Bibliography ID
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