超薄膜シリコン量子井戸を含む絶縁ゲートによるInP系超高周波大電力デバイスの実現

書誌事項

超薄膜シリコン量子井戸を含む絶縁ゲートによるInP系超高周波大電力デバイスの実現

長谷川英機研究代表

(科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成10年度〜平成11年度)

[北海道大学大学院工学研究科], 2000.3

タイトル読み

チョウウスマク シリコン リョウシ イド オ フクム ゼツエン ゲート ニヨル InPケイ チョウコウシュウハ ダイデンリョク デバイス ノ ジツゲン

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA47593191
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    engjpn
  • 出版地
    [札幌]
  • ページ数/冊数
    172p
  • 大きさ
    30cm
  • 親書誌ID
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