レーザーアブーションによる半導体薄膜作製と時間分解構造測定 Fabrication of semiconductor films by laser ablation and time-resolved structure measurements

著者

• 村上, 浩一 ムラカミ, コウイチ

書誌事項

レーザーアブーションによる半導体薄膜作製と時間分解構造測定 = Fabrication of semiconductor films by laser ablation and time-resolved structure measurements

村上浩一研究代表者

（文部省科学研究費補助金(国際学術研究)研究報告書, 平成9-10年度）

[村上浩一], 1999.3

タイトル読み

レーザーアブレーション ニヨル ハンドウタイ ハクマク サクレツ ト ジカン ブンカイ コウゾウ ソクテイ

注記

課題番号: 09044131

• NII書誌ID(NCID): BA47631461
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: engjpn
• 出版地: [つくば]
• ページ数/冊数: 1冊
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BA4054852X