レーザーアブーションによる半導体薄膜作製と時間分解構造測定 Fabrication of semiconductor films by laser ablation and time-resolved structure measurements

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レーザーアブーションによる半導体薄膜作製と時間分解構造測定 = Fabrication of semiconductor films by laser ablation and time-resolved structure measurements

村上浩一研究代表者

(文部省科学研究費補助金(国際学術研究)研究報告書, 平成9-10年度)

[村上浩一], 1999.3

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レーザーアブレーション ニヨル ハンドウタイ ハクマク サクレツ ト ジカン ブンカイ コウゾウ ソクテイ

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課題番号: 09044131

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Details

  • NCID
    BA47631461
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    engjpn
  • Place of Publication
    [つくば]
  • Pages/Volumes
    1冊
  • Size
    30cm
  • Parent Bibliography ID
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