光の後方強調散乱を用いたCVD薄膜プロセスの実時間モニタリング装置開発

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光の後方強調散乱を用いたCVD薄膜プロセスの実時間モニタリング装置開発

研究責任者中山純一

[中山純一], 2000.3

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平成10年度〜11年度科学研究費補助金(基盤研究(C)(2))研究成果報告書(研究課題番号10650408)

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ヒカリ ノ コウホウ キョウチョウ サンラン オ モチイタ CVD ウスマク プロセス ノ ジツジカン モニタリング ソウチ カイハツ

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Details

  • NCID
    BA4776114X
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    engjpn
  • Place of Publication
    [京都]
  • Pages/Volumes
    196p
  • Size
    30cm
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