リソグラフィ限界を超えた制御性の良いシリコンナノデバイスの作製に関する研究

Bibliographic Information

リソグラフィ限界を超えた制御性の良いシリコンナノデバイスの作製に関する研究

研究代表者、平本俊郎

平本俊郎, 2000.3

Other Title

平成10年度〜平成11年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2)一般)研究成果報告書

文部省科学研究費補助金(基盤研究(B)(2)一般)研究成果報告書

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リソグラフィ ゲンカイ オ コエタ セイギョセイ ノ ヨイ シリコンナノ デバイス ノ サクセイ ニ カンスル ケンキュウ

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Note

研究分担者: 鳳紘一郎、藤島実

Details

  • NCID
    BA49221697
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [東京]
  • Pages/Volumes
    65p
  • Size
    30cm
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